MEIWAFOSIS

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Métalliseur à l’Osmium.

Une alternative innovante pour l’imagerie en microscopie électronique MEB haute résolution

La société Meiwafosis Co., Ltd. a mis sur le marché en 1997 le « métalliseur multifonction » doté de fonctions de revêtement par pulvérisation cathodique, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) par plasma et de traitement hydrophile.

En 2021, la société a créé le système avancé de métallisation à l’osmium « Tennant 20 » présentant des avantages supplémentaires.

Description
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Spécifications
Téléchargements

La forme de la poignée est adaptée à l’ouverture et à la fermeture du couvercle, l’angle de l’écran est optimisé pour une meilleure communication numérique, et le châssis est ajusté pour une manipulation aisée des ampoules. Tous ces détails garantissent un fonctionnement et un entretien facile.

Le Tennant20 est contrôlé par une boucle de contreréaction afin de stabiliser le courant du plasma et de réaliser un dépôt de film hautement reproductible. Le courant du plasma est mesuré toutes les 100μs et analysé par un microprocesseur de 32bits.

Basé sur le contrôle PID, la sortie du circuit de décharge est ajustée en calculant la puissance du dépôt afin d’atteindre la valeur de courant souhaitée à l’aide d’un algorithme unique.

Film ultrafin
Sans charge

Même si un échantillon a une structure complexe, un revêtement conducteur Os enveloppera complétement et profondément l’ensemble de l’échantillon. Bien qu’il s’agisse d’un film ultrafin, il n’y a pas besoin de s’inquiéter de l’accumulation de charge sous le faisceau d’électrons.

Plasma CVD
Revêtement conducteur d’Os pur

Grace au plasma CVD, le gaz de sublimation du tétraoxyde d’osmium est introduit dans la chambre à vide et le plasma est généré par un glow discharge. Au cours du procédé, la chambre est séparée en deux zones : « colonne positive » et « phase de d’incandescence négative ».

Caractéristiques TENNANT20

Modèle Tennant20
Taille de la chambre Ø150×70mm
Platine et taille d’échantillon Ø105mm
Ø10mm×35, Ø15mm×10, Ø30mm×5
Écran tactile Oui
Maintien du vide pendant l’arrêt Oui
Détection ouverture / fermeture du cylindre de sublimation Oui
Séquence de mise à l’air automatique Oui
Volume de la pompe à vide 3m³/h (50l/min) pompe rotative à 2 étages
Alimentation AC 230V/max. 5A / 100V/max. 10A
(y compris le démarrage de la pompe à vide)
Consommation 780W
Poids 22kg
Dimensions de l’appareil 390(L) x 385(l) x 435(H)mm